服务热线: 13823761625

新闻资讯

联系我们

当前位置:网站首页 >> 新闻资讯 >> 行业新闻

行业新闻

ASML全年净销售额增30.2%,2030冲击0.7nm工艺

发布日期:2024-03-16 点击次数:148
来源:国际电子商情
    荷兰半导体设备供应商ASML于14日公布了2023年的年度报告。报告以“小影像,大影响”为主题,展现了ASML的商业模式及战略、公司治理以及财务表现情况。
    报告期内,ASML 2023全年净销售额达到276亿欧元,较2022年的212亿欧元同比增长约30.2%;净利润为78亿欧元。
    ASML是世界上最大的光刻系统制造商。这种设备在制造半导体的过程中起着至关重要的作用。尽管英特尔、德州仪器和英飞凌科技等芯片制造商都警告今年销售疲软,但对阿斯麦产品的需求仍是整个行业的风向标。
    ASML乐观表示,半导体市场已到达谷底,正出现复苏迹象,但也警告地缘政治紧张和美国可能扩大对中国大陆的出口管制,仍是营运风险。
    ASML财务长Roger Dassen评论表示:“我们相信市场如今来到跌势的最低点,尽管无法预测未来的确切走势,但复苏正在萌芽。”他说,“更长期趋势确定无疑”,人工智能(AI)、电气化、能源转型,为ASML业务的利多。
    值得一提的是,ASML近日还宣布,已经向Intel交付了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片,并有望进一步推动摩尔定律的发展。
    据了解,这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值(NA),能够实现更小的临界尺寸和金属间距,从而支持制造更小尺寸的芯片。目前,台积电和三星等其他半导体制造商也将陆续接收这种光刻机,预计将能够支持达到1nm工艺左右的芯片制造。
    下一步,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,以继续推动摩尔定律的发展。这种新型光刻机将进一步提高孔径数值,预计将超过0.7nm。ASML CTO Martin van den Brink在《2023年度报告》中提出了Hyper NA EUV概念,有望在2030年问世。





















免责声明: 本文章转自其它平台,并不代表本站观点及立场。若有侵权或异议,请联系我们删除。谢谢!
    矽源特科技ChipSourceTek